Čistost O2: ≥99,5 %

O2 zmogljivost: 50~10000 Nm3/h

Čistost N2: ≥99,999 %

Zmogljivost N2: 50~30000 Nm3/h

Hkrati in izmenično proizvajajte O2 in N2

Čistost O2: ≥99,5 %

Čistost N2: ≥99,999 %

O2 zmogljivost: 50~10000 Nm3/h

Kapaciteta N2: 50~30000 Nm3/h

Čistost argona: ≥99,9 %

Kapaciteta argona: ≥3Nm3/h

Čistost tekočega kisika: ≥99,5 %

Kapaciteta tekočega kisika: ≤300TPD

Čistost tekočega dušika: ≥99,999 %

Kapaciteta tekočega dušika: ≤300TPD

Hkrati in izmenično proizvajajte LOX in LIN

Čistost tekočega kisika: ≥99,5 %

Čistost tekočega dušika: ≥99,999 %

Kapaciteta LOX/LIN: ≤300 TPD

Hkrati in izmenično proizvajajte LOX, LIN in LAR

Čistost tekočega kisika: ≥99,5 %

Čistost tekočega dušika: ≥99,999 %

Čistost tekočega argona: ≥99,999 %

Kapaciteta LOX/LIN: ≤300 TPD

Kapaciteta tekočega argona: ≤100TPD